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    光电行业真空镀膜耗材解决方案
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    真空镀膜有三种形式:蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀,是目前以物理气相沉积法(PVD)方式实现膜生长的主流技术。欧泰稀材生产供应各类形态的高纯金属蒸发料、溅射靶材,确保用户得到好的镀膜品质。

     

    1、蒸发镀膜
    通过在真空中加热蒸发某种物质使其产生金属蒸气沉积(凝聚)在固体表面成为薄膜。 

    2、溅射镀膜
    用高能粒子轰击被沉积材料(靶材)表面,使靶材表面粒子获得能量并逸出表面,而后沉积在基片上获得薄膜。 

    3、离子镀
    被蒸发物质的分子(原子)被电子碰撞电离后,以离子形态沉积在基片表面生成薄膜。

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